RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，能夠滿足非腐蝕性氣體化學(xué)最苛刻的工藝要求。計(jì)算機(jī)化觸摸屏為工藝配方編程和存儲(chǔ)提供了用戶友好的界面。該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。憑借其圓滑、緊湊的設(shè)計(jì)，RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。

應(yīng)用:

硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。

主要功能和優(yōu)點(diǎn)：

1、加工至?220mm（?3“x5，?4”x3，?8”x1）。

2、高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴(yán)格的工藝要求全自動(dòng)“一鍵式”操作。

3、自動(dòng)壓力控制，允許獨(dú)立于氣流干泵和系統(tǒng)布局的過(guò)程壓力精確控制，便于維護(hù)。

4、于Windows的用戶界面，豐富的配方和內(nèi)置的數(shù)據(jù)記錄功能，是一個(gè)可靠和持久的系統(tǒng)，全球安裝了400多個(gè)系統(tǒng)。

主要參數(shù)規(guī)格：